《科創(chuàng)板日報(bào)》4日訊，中微公司(688012.SH)公告稱，中微公司近日推出六款半導(dǎo)體設(shè)備新產(chǎn)品，包括兩款刻蝕設(shè)備和四款薄膜沉積設(shè)備?？涛g設(shè)備方面，新一代極高深寬比等離子體刻蝕設(shè)備PrimoUD-RIE?和專注于金屬刻蝕的PrimoMenova?12寸ICP單腔刻蝕設(shè)備，旨在滿足客戶在極高深寬比刻蝕和金屬刻蝕領(lǐng)域的需求。薄膜沉積設(shè)備方面，包括三款原子層沉積產(chǎn)品和一款外延產(chǎn)品，如PreformaUniflash?金屬柵系列和PRIMIOEpita?RP雙腔減壓外延設(shè)備。這些新產(chǎn)品預(yù)計(jì)將對公司未來半導(dǎo)體設(shè)備市場拓展和業(yè)績成長性產(chǎn)生積極影響。新產(chǎn)品尚處于市場導(dǎo)入初期，存在市場推廣和客戶驗(yàn)證等風(fēng)險(xiǎn)，可能對公司收入和盈利帶來不確定性。