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全球晶圓廠設(shè)備開支保持強勁 該細分領(lǐng)域需求持續(xù)提升
原創(chuàng)
2025-04-15 07:48 星期二
財聯(lián)社
①由先進半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群主辦的2025中國國際半導(dǎo)體先進技術(shù)與應(yīng)用大會,將于4月22日在蘇州舉辦。
②興業(yè)證券分析指出,全球晶圓廠設(shè)備開支保持強勁,光刻機需求持續(xù)提升。

由先進半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群主辦的2025中國國際半導(dǎo)體先進技術(shù)與應(yīng)用大會,將于4月22日在蘇州舉辦。

興業(yè)證券分析指出,全球晶圓廠設(shè)備開支保持強勁,光刻機需求持續(xù)提升。ASML預(yù)計到2030年,全球半導(dǎo)體銷售額將超過1萬億美元,2025-2030年CAGR達9%;2025年-2027年,全球300mm晶圓廠設(shè)備支出預(yù)計分別1232億美元/1362億美元/1408億美元,同比分別增長24%/11%/3%,光刻機是半導(dǎo)體設(shè)備中市場占比最大品類,市場占比達24%。伴隨先進邏輯和存儲芯片制程持續(xù)迭代,EUV光刻機占比持續(xù)提升。光刻機作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備,目前全球前道光刻機被ASML、尼康、佳能壟斷,實現(xiàn)光刻機的國產(chǎn)化勢在必行,具有重大戰(zhàn)略意義。

據(jù)財聯(lián)社主題庫顯示,相關(guān)上市公司中:

茂萊光學(xué)為光刻機光學(xué)系統(tǒng)提供用于勻光、中繼照明模塊的光學(xué)器件、投影物鏡,以及用于工件臺位移測量系統(tǒng)的棱鏡組件,是光刻機實現(xiàn)光線均勻性與曝光成像的核心模塊。

張江高科于2024年10月,通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子公司22,345萬元人民幣,持有上海微電子公司10.779%的股權(quán)。

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