近日，作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一，全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)“羲之”已進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試，其精度比肩國(guó)際主流設(shè)備，標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了“中國(guó)刻刀”。

愛建證券指出，SEMI數(shù)據(jù)顯示，2024年全球光刻設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模達(dá)295.7億美元，Mordor Intelligence預(yù)計(jì)全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模到2029年將達(dá)378.1億美元，2024-2034復(fù)合增長(zhǎng)率為5.0%。在國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的通力合作下，越來(lái)越多的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取得顯著進(jìn)展，建議關(guān)注相關(guān)的投資機(jī)會(huì)。

據(jù)財(cái)聯(lián)社主題庫(kù)顯示，相關(guān)上市公司中：

博眾精工表示，2024年下半年博眾儀器正式發(fā)布熱場(chǎng)發(fā)射電子源、高穩(wěn)定度直流高壓電源和高穩(wěn)定度恒流源，這些產(chǎn)品不僅是透射電子顯微鏡的關(guān)鍵部件，還可以用于掃描電鏡、聚焦離子束、電子束光刻機(jī)等領(lǐng)域設(shè)備。

路維光電90nm、40nm在光刻機(jī)方面都需要使用電子束光刻機(jī)搭配干法制程技術(shù)，公司已經(jīng)針對(duì)半導(dǎo)體掩膜版在電子束光刻、干法制程等技術(shù)方面開展了相應(yīng)研究，不斷進(jìn)行技術(shù)突破。